具有自动切换及侦测多种气体之供应系统

摘要

本发明系揭露具有自动切换及侦测多种气体之供应系统。此系统包含(1)一反应室，该反应室系为半导体制程在此发生反应，该半导体制程需要不同的气体参与反应，且该不同的气体相互不起反应；(2)一上段气体输送管，该上段气体输送管从该反应室连接至三口气动阀以输送该气体；(3)一质流控制器，该质流控制器安置于上段气体输送管上系控制上段气体输送管内气体的流量；(4)一气动阀气室，该气动阀气室与三口气动阀、气体控制中心连接以控制三口气动阀的开关；(5)一气体控制中心，该气体控制中心连接至该气动阀气室及该质流控制器以控制整个气体供应系统；(6)一三口气动阀，该三口气动阀连接至二个下段气体输送管，可选择其中一气体通过；(7)二个气压感应器，该二个气压感应器分别接至二个下段气体输送管以便侦测管内之气压；(8)二个信号灯，该二个信号灯分别连接至该气压感应器以便接受气压感应器的讯息发布警讯；(9)二个下段气体输送管，该二个下段气体输送管分别上接气体供应室及下接三口气动阀；及(10)二个气体供应室，该气体供应室系供应反应所需之气体，与下段气体输送管相接。

主权项

1. 一具有自动切换及侦测多种气体之供应系统,包 含: 第一气体供应室,该气体供应室系用以储存第一气 体; 第一气压感应器,该第一气压感应器和第一气体供 应室相 连接用以感测第一气体供应室所输出之气压; 第二气体供应室,该气体供应室系用以储存第二气 体; 第二气压感应器,该第二气压感应器和第二气体供 应室相 连接用以感测第一气体供应室所输出之气压; 一三口气动阀,该三口气动阀系具有二个输入口与 一个输 出口,用以控制将两个输入口之一切换至输出口; 及上述 之第一气体供应室与第二气体供应室分别和该三 口气动阀 之输入口连接,以供给第一气体及第二气体; 一质流控制器,该质流控制器其一端和三口气动阀 之输出 口连接,用以控制由三口气动阀输出口所输出气体 的流量 ; 一反应室,该反应室其一端和质流控制器之另一端 连接, 及该反应室系为半导体制程在此发生反应,该半导 体反应 需要不同的气体参与反应,且该不同的气体相互不 起反应 。2. 如申请专利范围第1项所述之系统,更包含第 一信号灯 ,用以显示第一气压感应器之状况。3. 如申请专利 范围第1项所述之系统,更包含第二信号灯 ,用以显示第二气压感应器之状况。4. 如申请专利 范围第1项所述之系统,更进一步的包含下 段气体输送管系用以连接上述之三口气动阀及上 述之气体 供应室。5. 如申请专利范围第1项所述之系统,更 进一步的包含上 段气体输送管系用以连接上述之质流控制器及上 述之反应 室。6. 如申请专利范围第1项所述之系统,其中上 述之质流控 制器系由一气体控制中心控制,该气体控制中心包 括一电 脑及一电路板。7. 如申请专利范围第1项所述之系 统,其中上述之三口气 动阀的切换系由一气动阀气室控制。8. 如申请专 利范围第7项所述之系统,其中上述之气动阀 气室系由上述之气体控制中心控制。图示简单说 明: 第1图系为半导体厂单一气体的管路供应系统设备 图。 第2图系为半导体厂传统两种气体的供应系统设备 图。 第3图系为半导体厂具有自动切换及侦测两种气体 之供应