| 发明名称 |
SPUTTERING TARGET FOR FORMING FERROELECTRIC FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08269699(A) |
申请公布日期 |
1996.10.15 |
| 申请号 |
JP19950098133 |
申请日期 |
1995.03.30 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP |
发明人 |
MORI AKIRA;UCHIYAMA NAOKI |
| 分类号 |
C01G23/00;C23C14/08;C23C14/34;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C01G23/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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