| 主权项 |
1. 一种制造及加工芳香族羧酸之工厂组件,其中之芳香族羧酸乃藉液相氧化一经取代之芳香族化合物,于一含水的,较低的脂肪族单羧酸介质中,且内有由钴,锰,及溴所组成的催化系统存在的状态下,而生成,其中该含水的酸性介质会与若干工厂组件相接触,此等工厂组件包括但不限于:反应发生所在地的反应器,结晶容器,其他联合的组件,高架容器、热能交换器、蒸气消散及回流系统、管路、帮浦、阀门及搅拌装置、构成产品回收区域的组件,构成溶液回收区域的组件,构成去水区域的组件,构成催化剂去除/回收区域的组件,以及该等组件的次组件,其特征为:此等工厂组件至少有部分于使用时须曝露于该介质中,且处在分别超过180℃及8巴尔之高温高压下者,系由氮合金级的具钼成份双层不锈钢所制造。2.根据申请专利范围第1项之工厂组件,其中在使用时须曝露在介质中,且处在分别低于180℃及8巴尔的温度及压力下者,亦是由该双层不锈钢所制造。3. 根据申请专利范围第2项之工厂组件,其乃经制造成一反应容器,使该之氧化作用可于其内进行。4. 根据申请专利范围第2项之工厂组件,其乃经制造成一初阶结晶容器,以形成一系列结晶阶段的一部分,使结晶自母液的芳香族羧酸之经控制结晶作用可于其内完成。5. 根据申请专利范围第1至4项中任一项之工厂组件,其乃由氮合金级的具钼成分之双层不锈钢所制造,且当其曝露至一未经搅动,具以下所界定之成分的液相介质,温度为191℃,持续14天后,所呈现的腐蚀率不大于0.1毫米/年,此液相介质组成为:醋酸: 88.01% w/w水: 11.99% w/w溴: 944 ppm钴: 410 ppm锰: 412 ppm钠: 98 ppm6. 根据申请专利范围第5项之工厂组件,其中之双层不锈钢于所界定之条件下,表现出腐蚀率不大于0.04毫米/年。7. 根据申请专利范围第5项之工厂组件,其中之双层不锈钢于所界定之条件下,表现出腐蚀率不大于0.025毫米/年。8. 根据申请专利范围第5项之工厂组件,其中之双层不锈钢以下之组成:碳 至多0.03矽 至多2.0锰 至多2.0磷 至多0.04硫 至多0.04铬 24-26镍 5-8钼 3-4氮 0.2-0.3钨 至多1.0铜 至多2.5铁 其余的9. 一种制造芳香族羧酸之方法,其中之芳香族羧酸乃藉液相氧化一芳香族化合物,于一含水的单羧酸介质,温度在180至220℃间,压力在8至20巴尔范围内,且有由钴,锰,及溴所组成的催化系统之存在,以生成述及之芳香族羧酸,充填母液,并使上述得自氧化反应器之芳香族羧酸经过一系列的结晶器阶段,于此结晶阶段中,自母液控制结晶为芳香族羧酸的步骤可被完成,其特征为:进行此氧化方法及/或至少上述之最初结晶步骤于一氧化及/或结晶容器内,此等容器之接触到反应介质之表面,须以氮合金级的具钼成份双层不锈钢制造;且控制此反应的条件,以及尤其是此介质的水含量,以符合具下列指定的表面组成分之双层钢,在如此之条件下,于曝露至液相的含水酸性介质后之腐蚀率不超过0.15毫米/年,此述及之组成分包括:碳 0.017矽 0.21锰 0.44磷 0.018硫 0.001铬 24.74镍 6.72钼 3.8氮 0.28铜 <0.1钨 <0.1铁 其余的10. 根据申请专利范围第9项之方法,其中之反应条件乃被控制以符合具指定的表面组成分之双层钢,在如此之条件下,于曝露至液相的含水酸性介质后之腐蚀率不超过0.1毫米/年。11. 根据申请专利范围第9项之方法,其中之反应容器及/或结晶容器以及其它位在此反应容器及/或结晶容器之内,或与此反应容器及/或结晶容器相联者,亦即在界定之温度及压力下曝露至液相介质者,须以前述之双层不锈钢制造,在此条件下,其呈现之腐蚀率不超过0.15毫米/年。12. 根据申请专利范围第9项之方法,其中之腐蚀率不超过0.1毫米/年。13. 根据申请专利范围第9至12项中任一项之方法,其中反应容器及/或结晶容器及/或述及之组件,其乃由抗腐蚀性较述及之双层钢为弱之第一材质所制造,其中,双层钢形成一衬套覆盖在上述抗腐蚀性较弱之材质上。14. 根据申请专利范围第9至12项中任一项之方法,其中在氧化反应器内之介质的水含量被维持在相对于全单羧酸/水含量的3至10% v/v范围内。15. 根据申请专利范围第9至12项中任一项之方法,其中在氧化反应器内之水含量,可藉自反应器中抽出蒸汽,自蒸汽中冷凝单羧酸及水,调整冷凝液中之水含量,并并于如此调整后将此经冷凝之液体,送回反应器作回流,而加以控制。16. 根据申请专利范围第9项之方法,其中之双层钢乃制造反应容器及/或初阶结晶容器之材质,其组成如下:碳 至多0.03矽 至多2.0锰 至多2.0磷 至多0.04硫 至多0.04铬 24-26镍 5-8钼 3-4氮 0.2-0.3钨 至多1.0铜 至多2.5铁 其余的17. 根据申请专利范围第1至4项中任一项之工厂组件,其内所进行之反应乃在可使所生成之粗对苯二酸中含有相对于所生成之粗对苯二酸的300到7000 ppm量范围内的4-羧基苯甲醛(4-CBA)之条件下进行。18. 根据申请专利范围第9至12项中任一项之工厂组件,其内所进行之反应乃在可使所生成之粗对苯二酸中含有相对于所生成之粗对苯二酸的300到7000 ppm量范围内的4- |
