| 发明名称 | 清洗氮化矽去除过程中磷酸过滤器之装置 | ||
| 摘要 | 一种清洗氮化矽去除过程中磷酸过滤器之装置，包括二个磷酸控制阀，用以中断磷酸循环，一氟化氢槽，用以储存氟化氢，以及二个氟化氢控制阀，用以打开氟化氢循环，以清洗磷酸过滤器。 | ||
| 申请公布号 | TW287960 | 申请公布日期 | 1996.10.11 |
| 申请号 | TW084110969 | 申请日期 | 1995.10.18 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 石景霖;杨幸生 |
| 分类号 | B01D29/01 | 主分类号 | B01D29/01 |
| 代理机构 | 代理人 | 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一 | |
| 主权项 | 1. 一种清洗氮化矽去除过程中磷酸过滤器之装置,可装设在一氮化矽去除装置中,该氮化矽去除装置至少包括一氮化矽去除槽、一泵浦、以及一过滤器,该清洗氮化矽去除过程中磷酸过滤器之装置包括:二磷酸控制阀,耦接在该氮化矽去除槽、以及该泵浦和过滤器之间,用以控制磷酸之循环;一氟化氢槽,用以储存氟化氢;以及二氟化氢控制阀,耦接在该氟化氢槽、以及该泵浦和过滤器之间,用以控制氟化氢之循环;当要清洗该过滤器时,关闭该些磷酸控制阀,中断磷酸之循环,并打开该些氟化氢控制阀,以利氟化氢之循环并清洗过滤器。图示简单说明:第一图是传统氮化矽去除过程中磷酸循环之流程示意图。第二图是描述本发明一较佳实施例的一种加装氟化氢循环 | ||
| 地址 | 新竹科学工业园区工业东三路三号 | ||