发明名称 |
FOCUSED ION BEAM APPARATUS AND FOCUSED ION BEAM IRRADIATING METHOD |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH08264150(A) |
申请公布日期 |
1996.10.11 |
申请号 |
JP19950065511 |
申请日期 |
1995.03.24 |
申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
ISHITANI TORU;ONISHI TAKESHI |
分类号 |
H01J37/08;H01J37/09;H01J37/147;H01J37/26;H01J37/30;(IPC1-7):H01J37/30 |
主分类号 |
H01J37/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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