| 发明名称 |
Procédé et dispositif pour la mesure in situ des contraintes se développant au sein d'une couche mince lors de son dépôt sur un substrat. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2719900(B1) |
申请公布日期 |
1996.09.20 |
| 申请号 |
FR19940005793 |
申请日期 |
1994.05.11 |
| 申请人 |
ESSILOR INTERNATIONAL |
发明人 |
FRAKSO FATIMA;BOSMANS RICHARD;NOUVELOT LUC |
| 分类号 |
C23C14/54;G01L1/24;G01L5/00;(IPC1-7):G01L1/00;G01B5/30;G01B7/16;G01B11/16 |
主分类号 |
C23C14/54 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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