发明名称 Verfahren zur Erzeugung einer Resiststruktur
摘要
申请公布号 DE59010396(D1) 申请公布日期 1996.08.01
申请号 DE19905010396 申请日期 1990.04.27
申请人 SIEMENS AG, 80333 MUENCHEN, DE 发明人 SEZI, RECAI, DR., DIPL.-CHEM., D-8551 ROETTENBACH, DE;BORNDOERFER, HORST, DIPL.-CHEM., D-8520 ERLANGEN, DE;RISSEL, EVA-MARIA, D-8550 FORCHHEIM, DE;LEUSCHNER, RAINER, DR., DIPL.-CHEM., D-8521 GROSSENSEEBACH, DE;SEBALD, MICHAEL, DR., DIPL.-CHEM., D-8521 HESSDORF, DE;AHNE, HELLMUT, DR., DIPL.-CHEM., D-8551 ROETTENBACH, DE;BIRKLE, SIEGFRIED, DR., DIPL.-CHEM., D-8552 HOECHSTADT, DE
分类号 G03F7/029;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/32;G03F7/36;G03F7/38;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/312;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 G03F7/029
代理机构 代理人
主权项
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