| 发明名称 |
MANUFACTURE OF DIELECTRIC ISOLATION TYPE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08195435(A) |
申请公布日期 |
1996.07.30 |
| 申请号 |
JP19950004427 |
申请日期 |
1995.01.13 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
TANZAWA KATSUJIRO;KOJIMA KATSUYOSHI;MIYAGAWA MASAFUMI |
| 分类号 |
H01L21/762;H01L21/02;H01L21/304;H01L21/76;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/762 |
主分类号 |
H01L21/762 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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