| 摘要 |
本发明系包括制造具有不同组成的奈米结构化结构物及奈米孔隙薄膜结构物之方法。该等薄膜都可直接图样化。在该等方法中，于表面上沈积先质膜且在选定条件下使先质膜之不同成分反应，形成一奈米结构化或奈米孔隙薄膜。此类薄膜可用在多种应用中，例如，低k介电质薄膜，感测器，催化剂，导体或磁性薄膜。该奈米结构化薄膜可经由下列而制成：(1)使用一种先质成分及两种反应，(2)依据不同的光化学转化速率使用两种或更多种成分，(3)如一先质之热敏感性，和另一先质之光化学敏感性，使用两种先质，及(4)藉由伊先质膜之光化学反应及从薄膜选择地移除大部份未反应的成分。 |
