发明名称 |
Process for the development of irradiated radiation-sensitive recording materials |
摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entwickeln bestrahlter, strahlungsempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien mit einem wäßrig-alkalischen Entwickler, der spezielle Verbindungen der Formel I <IMAGE> enthält, die bisher nur auf dem Wasch- und Reinigungsmittel-Sektor eingesetzt wurden.
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申请公布号 |
EP0720060(A1) |
申请公布日期 |
1996.07.03 |
申请号 |
EP19950119851 |
申请日期 |
1995.12.15 |
申请人 |
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
ELSAESSER, ANDREAS, DR.;FRASS, WERNER, DR.;BACHSTEIN, JUTTA |
分类号 |
G03F7/00;G03F7/30;G03F7/32;G03G13/28;(IPC1-7):G03F7/32 |
主分类号 |
G03F7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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