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发明名称 DC sputtering method and target for producing films based on silicon dioxide
摘要
申请公布号 EP0436741(B1) 申请公布日期 1996.06.26
申请号 EP19900911700 申请日期 1990.08.01
申请人 ASAHI GLASS COMPANY LTD. 发明人 ANDO, EIICHI;MITSUI, AKIRA;EBISAWA, JUNICHI;SUZUKI, KOICHI;MATSUMOTO, KIYOSHI;OYAMA, TAKUJI
分类号 B32B17/10;C03C17/245;C03C17/34;C03C27/12;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/34;G02F1/1333;G02F1/1335;(IPC1-7):C23C14/10;C03C3/06 主分类号 B32B17/10
代理机构 代理人
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