| 主权项 |
2. 根据申请专利范围第1项之方法,其特征是选择 之介电 材料的折射率小于光敏感材料的折射率。3. 根据 申请专利范围第1或2项之方法,其特征是介电材 料选自包含三氧化二钇(Y@ss2O@ss3)、二氧化矽(SiO@ss 2 )、氮化矽(Si@ss3N@ss4)及其混入物的族群。4. 根据 申请专利范围第1或2项之方法,其特征是介电材 料包含了氟化物。5. 根据申请专利范围第4项之方 法,其特征是氟化物选自 氟化镁(MgF@ss2)、氟化钡(BaF@ss2)、氟化锂(LiF)、氟 化钠(NaF)及其混合物的族群。6. 根据申请专利范 围第1项之方法,其特征是选用的基板 材料是玻璃质的。7. 一种光学可读资料载体,包含 有一基板,及具有根据 记录资料位元而来的局部轮廓差异之隶属图样的 表面,此 表面上至少有一个金属反射层,其特征是该隶属图 案为记 录主盘中,局部下凹区主盘图样之正或负影像,该 记录主 盘以一方法制造,藉着在基板上形成至少一层光敏 感材料 ,接着在选择性区域以光束照射,接着又显影使其 在照光 位置局部区域凹下去;位于基板和光敏感材料之间 有一层 介电材料的薄膜,藉着照光至少会在光敏感层中产 生平均 强度Ya的光驻波,该驻波的相位是由介电膜厚度的 选择而 定,其光敏感层及介电膜介面的强度Yi値大于Ya。 图示简单说明: 图1是描绘出已经直接覆盖一层光阻材料的部份基 板横截 面; 图2是显示图1所示之物体受到局部聚焦雷射光束 的照射; 图3是描绘出图2部份照光后,接着由硷性溶液显影 之结果 ; 图4是显示一种适合本发明方法之主盘介质受到局 部照光 的部份横截面视图,此介质包含了一种适当选用之 介电膜 作为基板及光阻材料层间的夹心; 图5是显示图4中的物体接着在硷性溶液中显影; 图6是描绘一种类似图5所示的情况,但是前者在照 光抑或 显影的条件和后者所采用的不一样; 图7是部份根据本发明制成之碟状资料载体的透视 图,在 此表面上赋与了尖锐定义之轮廓地形差异,相对于 记录资 |
