发明名称 |
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD AND APPARATUS |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH08139005(A) |
申请公布日期 |
1996.05.31 |
申请号 |
JP19940279474 |
申请日期 |
1994.11.14 |
申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
DAIKYO YOSHIHISA;ARAI SOICHIRO;SATO TAKAMASA;YAHARA HIDEFUMI;YASUDA HIROSHI |
分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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