| 摘要 |
<p>On décrit un outil doté d'un revêtement qui comprend une ou plusieurs couches réfractaires dont celle, extérieure, qui est lisse, brillante, à coefficient de texture de 110 et composée d'α-Al2O3. Cette couche d'Al2O3 présente une apparence de surface presque semblable à celle d'une couche d'Al2O3 polie. La couche α-Al2O3 est appliquée par un procédé CVD. Le potentiel d'oxydation de l'atmosphère du réacteur CVD avant nucléation de Al2O3 est maintenu à un faible niveau. La nucléation de Al2O3 est démarrée par mise en séquence contrôlée des gaz réactifs. On utilise deux dopants différents (H2S et SF6) afin d'obtenir des conditions de croissance différentes. En changeant les conditions de croissance après un certain programme, on peut obtenir la formation de la couche désirée de α-Al2O3.</p> |
