| 发明名称 |
METHOD FOR WASHING SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08124889(A) |
申请公布日期 |
1996.05.17 |
| 申请号 |
JP19940257032 |
申请日期 |
1994.10.21 |
| 申请人 |
SHIN ETSU HANDOTAI CO LTD |
发明人 |
NAKANO MASAMI;UCHIYAMA ISAO;TAKAMATSU HIROYUKI |
| 分类号 |
B08B3/08;C11D7/02;C11D7/04;H01L21/304;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
B08B3/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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