| 发明名称 |
PROCESO DE IMPRESION ESTIRADA DE SEMITONO Y SUBSTRATOS IMPRESOS POR DICHO PROCESO |
| 摘要 |
UN PROCESO DE IMPRESION IMPRIME UN SUBSTRATO EN MOVIMIENTO CONTINUO CON GRAFICOS DEL SEMITONO ELONGADOS.EL SUBSTRATO IMPRESO ES INCORPORADO EN UN MATERIAL ELASTICO COMPUESTO,EN EL CUAL EL SUBSTRATO ES CONTRAIDO, FORMANDO POR LO TANTO UN GRAFICO DE TONO PLENO DESEADO A PARTIR DEL GRAFICO DE SEMITONO. |
| 申请公布号 |
CR5241(A) |
申请公布日期 |
1996.04.10 |
| 申请号 |
CR19950005241 |
申请日期 |
1995.12.21 |
| 申请人 |
KIMBERLY CLARK WORLDWIDE INC |
发明人 |
ROBERT JOSEPH SCHLEINZ;DANIEL J. CONRAD;JOSEPH S. KUCHEROVSKY |
| 分类号 |
B41M3/06;A41B;A61F;B32B9/00;B41F17/00;B41F17/08;B41M1/26;B41M1/30;B41M3/00;D06N7/04;D06P;D06P1/08;G03F9/00;(IPC1-7):B41M3/00 |
主分类号 |
B41M3/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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