| 发明名称 |
IMPROVEMENT RELATED TO CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0891989(A) |
申请公布日期 |
1996.04.09 |
| 申请号 |
JP19950147781 |
申请日期 |
1995.06.14 |
| 申请人 |
THOMAS SWAN & CO LTD |
发明人 |
JIYON ARUFURETSUDO KUROORII;BUIKUTAA JIYON SEIUERU |
| 分类号 |
C30B25/02;C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;C30B25/14;H01L21/205;(IPC1-7):C30B25/02 |
主分类号 |
C30B25/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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