用以形成抗蚀图形的方法

摘要

一种用以形成抗蚀图形的方法，它是通过涂覆具有小厚度的主光致抗蚀图形，并然后在主光致抗蚀图形上涂覆次光致抗蚀图形而制成的。另一方面，抗蚀图形可通过涂覆主光致抗蚀膜，将主光致抗蚀膜曝光以在主光致抗蚀膜上限定曝光区，在主光致抗蚀膜上涂覆次光致抗蚀膜，将次光致抗蚀膜曝光以在次光致抗蚀膜上限定曝光区，和将所得结构显影以形成主和次光致抗蚀图形而制成。该方法获得了光的对比度的改善，由此获得了具有垂直构形的抗蚀图形。

主权项

1.一种用以形成抗蚀图形的方法，它包括下列步骤：在下层上涂覆具有小的厚度的主光致抗蚀膜；使用一掩模将主光致抗蚀膜曝光，然后将主光致抗蚀膜显影，由此形成主光致抗蚀图形；在所得结构的整个露出表面上形成一中间层；在中间层上涂覆次光致抗蚀膜，使用与主光致抗蚀膜所用相同的掩模将次光致抗蚀膜曝光，然后将次光致抗蚀膜显影，由此形成次光致抗蚀图形；和蚀刻一部分通过次光致抗蚀图形所露出的中间层，由此形成完全地与主光致抗蚀图形重叠的次光致抗蚀图形，使得所得抗蚀图形具有垂直构形。