| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR DEVICE USING CO SILICIDE LAYER AND ITS MANUFACTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0878357(A) |
申请公布日期 |
1996.03.22 |
| 申请号 |
JP19940207034 |
申请日期 |
1994.08.31 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
FUKANO SATORU;GOTO KENICHI |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/336;H01L29/43;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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