首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 1,2-Naphthochinon-2-diazid-sulfonsäureester, damit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
摘要
申请公布号 DE59301187(D1) 申请公布日期 1996.02.01
申请号 DE19935001187 申请日期 1993.03.13
申请人 HOECHST AG, 65929 FRANKFURT, DE 发明人 BUHR, GERHARD, DR., W-6240 KOENIGSTEIN, DE;ZAHN, WOLFGANG, DR., W-6228 ELTVILLE 2, DE;ERDMANN, FRITZ, DR., W-6228 ELTVILLE-MARTINSTHAL, DE;SCHELER, SIEGFRIED, DR., W-6200 WIESBADEN-NAUROD, DE
分类号 C07C309/76;G03F7/023;(IPC1-7):C07C309/76 主分类号 C07C309/76
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com