发明名称 Procédé de réalisation d'une matrice de composants à puits quantiques de structure verticale tout optique.
摘要 <P>L'invention concerne un procédé de réalisation d'une matrice de composants à puits quantiques de structure verticale fonctionnant en "tout optique". <BR/> Ce procédé consiste en ce que l'on encapsule d'une couche diélectrique négative (7) dont l'épaisseur est donnée par la condition de Bragg à la longueur d'onde de travail, une demi-structure formée d'un miroir inférieur (2), d'une zone active (3) partiellement recouverte par un masque d'autoalignement (4). On traite thermiquement la demi-structure encapsulée pour induire une interdiffusion d'alliage (9) dans les parties non recouvertes de la zone active et on recouvre la structure d'une ou plusieurs couches négative et positive (10, 11) de façon à finir le miroir de Bragg supérieur.</P>
申请公布号 FR2721722(A1) 申请公布日期 1995.12.29
申请号 FR19940007639 申请日期 1994.06.22
申请人 FRANCE TELECOM 发明人 NISSIM YVES;BENSOUSSAN MARCEL;OUDAR JEAN-LOUIS;RAO ELCHURI
分类号 G02F1/35;G02F1/017;G02F1/21;G02F3/02;H01S3/10;H01S5/00;(IPC1-7):G02F1/315;H01L31/18;H01L33/00 主分类号 G02F1/35
代理机构 代理人
主权项
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