| 发明名称 |
ACID BATH FOR THE GALVANIC DEPOSITION OF COPPER, AND THE USE OF SUCH A BATH |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0598763(B1) |
申请公布日期 |
1995.12.13 |
| 申请号 |
EP19920916259 |
申请日期 |
1992.07.22 |
| 申请人 |
ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH |
发明人 |
DAHMS, WOLFGANG;WESTPHAL, HORST;JONAT, MICHAEL |
| 分类号 |
C25D3/38;C25D7/00;(IPC1-7):C25D3/38 |
主分类号 |
C25D3/38 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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