| 发明名称 |
CLEANING COMPOSITION AND METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07324198(A) |
申请公布日期 |
1995.12.12 |
| 申请号 |
JP19950069856 |
申请日期 |
1995.03.28 |
| 申请人 |
MITSUBISHI CHEM CORP |
发明人 |
SAKO NAOKI;WATANABE MASAYUKI |
| 分类号 |
C11D7/08;C02F1/46;C11D7/10;H01L21/304;H01L21/308;(IPC1-7):C11D7/08 |
主分类号 |
C11D7/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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