| 主权项 |
1. 一种真空板,适于配置在一真空板系统之底板与 予以 被真空板系统所夹持之工件之间,该真空板包含: 一片材料具有一反面及一工作面,供分别与该底板 及工件 接触; 至少一孔通过材料片,以在使用时在该反面与工作 面之间 传轮真空;以及 许多弹性凸起部,各设置于该工作面上,以在使用 时与一 个别工件之接触面形成密封: 其中,在平面图,由各该弹性凸起部所形成之密封 具有闭 合形状,并且较小尺寸之密封插置于较大尺寸之密 封间。2. 如申请专利范围第1项之真空板,其中该 闭合形状为圆 形。3. 如申请专利范围第1项之真空板,其中许多 该孔设置于 该材料片上。4. 如申请专利范围第3项之真空板, 其中各该孔位于一个 别之该闭合形状内。5. 如申请专利范围第4项之真 空板,其中至少一该闭合形 状在其内不具有个别之该孔。6. 如申请专利范围 第1项之真空板,其中该诸凸起部为整 体构成于该材料片上。7. 如申请专利范围第1项之 真空板,其中一开口槽网路形 成于至少该工作面以通入该表面。8. 如申请专利 范围第7项之真空板,其中一个别该开口槽 网路为形成于该反面及工作面以通入各表面。9. 如申请专利范围第7项之真空板,其中该孔通入至 该槽 网路。10. 如申请专利范围第7项之真空板,其中该 网路包含一 矩形阵列之槽。11. 如申请专利范围第1项之真空 板,其中包含一弹性凸 起部在该材料片周边或靠近该材料片周边与该材 料片构成 整体,在使用时形成一绕周边延伸并接合一个别该 底面或 个别该工件接触面之密封。12. 如申请专利范围第 11项之真空板,其中在或邻近该周 边之该弹性凸起部自该工作面延伸。13. 如申请专 利范围第11项之真空板,其中在或邻近该周 边之该弹性凸起部自该反面延伸。14. 如申请专利 范围第11项之真空板,其中在或邻近该周 边之个别该弹性凸起部自各该反面及工作面延伸, 在使用 时形成一绕上述周边延伸并分别接合个别该底板 或个别该 工件之接触面之个别密封。15. 如申请专利范围第 11项之真空板,其中圈绕该周边而 延伸之该密封自该周边之一主要部份延伸。16. 如 申请专利范围第11项之真空板,其中圈绕该周边而 延伸之该密封自该周边连续延伸。17. 如申请专利 范围第1至16项任一项之真空板,其中该 材料为一种挠性材料。18. 如申请专利范围第1至16 项任一项之真空板,其中该 材料为一种塑胶材料。19. 如申请专利范围第1至16 项任一项之真空板,其中至 少真空板之该表面之一者形成有表面粗糙,以帮助 传输正 或负压力越过该表面。20. 如申请专利范围第19项 之真空板,其中该表面粗糙系 藉摩擦该表面所形成。21. 如申请专利范围第19项 之真空板,其中该表面粗糙系 在制造该真空板时藉模制或压制过程所形成。22. 如申请专利范围第1至16项任一项之真空板,其包含 设置于该反面并与个别该底板上之装置协同,以使 真空板 在底板上位于定位之定位装置。23. 如申请专利范 围第1至16项任一项之真空板,其在平 面图实质为圆形或部份圆形总体形状。24. 如申请 专利范围第23项之真空板,其包含许多唇形密 封,形成于真空板之该工作面及/或反面,并且在平 面图 为圆形或部份圆形,与真空板上之圆形或部份圆形 总体形 状同心。25. 如申请专利范围第23项之真空板,其中 该圆形或部份 圆体形状之圆心设有一孔。26. 如申请专利范围第 1至16项任一项之真空板,其为模 件形状及尺寸以构成一真空板面积为最小模件尺 寸之倍数 。图示简单说明: 图1以平面图显示一以许多不同模件所构成之支承 板; 图2为通过一组件之剖面图,此组件可用于图1之支 承板诸 模件之一; 图3为一使用诸如图1中所示支承板之真空板系统 一部份之 剖面图; 图4为平面图,显示图3系统之真空底板上表面之一 部份; 图5为与图1相似之平面图,但显示替代性支承板模 件之一 部份; 图6为在图5之A-A线所取之剖面图; 图7以底平面图示一种替代性支承板模件; 图8为图7之模件之部份顶平面图; 图9为图7之模件周边之部份剖面图; 图10为与图9相似之图,但显示所使用之模件在真空 底板 与一工件之间; 图11为一圆形垫之底平面图; 图12为圆形垫之顶平面图之实例; 图13为一种半圆形垫之顶平面图; 图14为一种四分之一圆形垫之顶平面图; 图15为圆形垫之一种变化型之顶平面图;以及 |
