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经营范围
发明名称
Entwickler für Photoresistschichten
摘要
申请公布号
DE4419166(A1)
申请公布日期
1995.12.07
申请号
DE19944419166
申请日期
1994.06.01
申请人
HOECHST AG, 65929 FRANKFURT, DE
发明人
WERDEN, KARL VAN, DR., 65307 BAD SCHWALBACH, DE;ELTGEN, MARLIES, 65343 ELTVILLE, DE
分类号
B01F17/42;G03F7/32;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/32
主分类号
B01F17/42
代理机构
代理人
主权项
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