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发明名称 Processing apparatus using plasma.
摘要
申请公布号 EP0510401(B1) 申请公布日期 1995.11.22
申请号 EP19920105684 申请日期 1992.04.02
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 NAGASEKI, KAZUYA, OPERATIONAL HEAD OFFICE;MOCHIZUKI, SHUUJI, OPERATIONAL HEAD OFFICE
分类号 H01L21/302;H01J37/32;H01L21/31;H05H1/50;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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