| 发明名称 |
METHOD OF FORMING FIELD OXIDIZING LAYER OF WHICH FIELD INJECTION REGION FORMS LOWER LAYER WITH LOW TEMPERATURE OXIDIZING LAYER USED ON INJECTION MASK |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07307305(A) |
申请公布日期 |
1995.11.21 |
| 申请号 |
JP19950131124 |
申请日期 |
1995.05.01 |
| 申请人 |
SILICONIX INC |
发明人 |
MAIKU EFU CHIYANGU;DEIBITSUDO JII GURATSUSO;JIYUNNUEI CHIEN |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/265;H01L21/318;H01L21/32;H01L21/762;H01L21/8249;(IPC1-7):H01L21/266 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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