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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR IN SPECTING FOREGN PARTICLES ON REAL TIME BASIS IN SEMICONDUCTOR MASS PRODUCTION LINE
摘要
申请公布号 KR950013433(B1) 申请公布日期 1995.11.08
申请号 KR19910018156 申请日期 1991.10.16
申请人 HITACHI CO., LTD. 发明人 MORIOKA, HIROSHI;NOGUCHI, MINORI;OSHIMA, YOSHIMASA;KEMBO, YUKIO;TANIGUCHI, YUZO
分类号 G01N21/88;G01N21/00;G01N21/94;G01N21/956;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 主分类号 G01N21/88
代理机构 代理人
主权项
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