| 发明名称 |
METHOD AND SYSTEM FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07283091(A) |
申请公布日期 |
1995.10.27 |
| 申请号 |
JP19940071051 |
申请日期 |
1994.04.08 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KOBAYASHI HIDE;NISHITANI EISUKE;SUZUKI MIWAKO;UCHIDA NORIHIRO;CHIBA NATSUYO;SHIMAMURA HIDEAKI |
| 分类号 |
G02B6/00;H01L21/02;H01L21/26;(IPC1-7):H01L21/02 |
主分类号 |
G02B6/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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