| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung zum Entsorgen einer wäßrigen Lösung, die eine organische Säure und einen Eisenkomplex enthält und insbesondere bei der Dekontamination radioaktiv kontaminierter Oberflächen von Bauteilen anfällt. Es ist vorgesehen, daß der Eisenkomplex in der Lösung durch Bestrahlung mit UV-Licht reduziert wird. Dabei bilden sich ein gelöstes Eisensalz und Kohlenstoffdioxid, das abgegeben wird. Der Lösung, die das gelöste Eisensalz und die organische Säure enthält, wird dann ein Oxidationsmittel zugegeben. Dabei entsteht Wasser und es bildet sich der Eisenkomplex neu. Ein Teil des gelösten Eisensalzes wird mittels eines Kationenaustauschers aus der Lösung entfernt. Die den Eisenkomplex enthaltende Lösung wird erneut mit UV-Licht bestrahlt. Es schließt sich ein Kreisprozeß an, der solange läuft, bis die gesamte organische Säure verbraucht ist.</p> |
