| 发明名称 |
SURFACE CLEANING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH07240394(A) |
申请公布日期 |
1995.09.12 |
| 申请号 |
JP19940055189 |
申请日期 |
1994.02.28 |
| 申请人 |
SUMITOMO SITIX CORP |
发明人 |
TANIZOE YASUKO;HORIE HIROSHI |
| 分类号 |
B08B3/08;C11D7/08;C11D7/10;C11D7/18;H01L21/304;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
B08B3/08 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
