发明名称 锡-钴复合镀层的制备方法
摘要 本发明公开了一种以锡-钴为基质金属的复合镀层制备方法,它使用下述组分的镀液:氯化亚锡20~35g/L、氯化钴10~20g/L、焦磷酸钾250~350g/L、碳化硅和氮化硼混和微粒2~5g/L、“代铬-90”20~40ml/L,所述碳化硅和氮化硼混和微粒由粒径小于0.5微米的碳化硅和氮化硼按3∶1的比例混和制成。采用本发明制备的镀层外表光亮,酷似铬镀层,而且有较高的硬度和抗蚀性好等优点,可广泛应用于装饰性电镀中。
申请公布号 CN1029633C 申请公布日期 1995.08.30
申请号 CN92112372.8 申请日期 1992.10.28
申请人 天津大学 发明人 唐致远;郭鹤桐;严立泉
分类号 C25D15/00;C25D15/02 主分类号 C25D15/00
代理机构 天津大学专利代理事务所 代理人 江镇华
主权项 1.一种锡-钴复合镀层的制备方法,其特征是,它使用下述组分的镀液:氯化亚锡20~35g/L、氯化钴10~20g/L、焦磷酸钾250~350g/L、碳化硅和氮化硼混和微粒2~5g/L、“代铬-90”(武汉材保所生产)20~40ml/L,所述碳化硅和氮化硼混和微粒由粒径小于0.5微米的碳化硅和氮化硼按3∶1(重量比)的比例混和制成。
地址 300072天津市七里台