发明名称 光学记录载体
摘要 本案叙述具有一基体(5)、一入射面(7)及一记缘层(8)之一种光学记录载体。该入射面乃设有成圆形或螺旋形槽之抗反射起伏结构。由于此种结构,入射之辐射波束(6)之能量乃以较有效之方式作写入该记录层之用。
申请公布号 TW255033 申请公布日期 1995.08.21
申请号 TW083106186 申请日期 1994.07.06
申请人 飞利浦电子股份有限公司 发明人 柯奈利斯.马利诺斯.约翰纳斯.凡.尤杰
分类号 G11B11/12 主分类号 G11B11/12
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1. 一种以一辐射波束写入及/或读取资讯用之光学记录载体,该记录载体包含一透明基体,该基体具有供辐射波束用之一入射面及一反面以及配置于该反面上之一记录层,其特点为该入射面设有一抗反射起伏结构,其结构遵从下式式中P@ss2为在入射面之平面中该起伏结构之特有尺寸,为辐射波速之波长,及NA为辐射波束之数値孔径。2. 根据申请专利范围第1项之光学记录载体,其中抗反射起伏结构之深度系大于记录层中跟踪起伏结构之深度。3. 根据申请专利范围第1项之光学记录载体,其中该记录层乃设有一跟踪起伏结构,及抗反射起伏结构具有与跟踪起伏结构相同之全部对称。4. 根据申请专利范围第1项之光学记录载体,其中抗反射起伏结构包含一栅,在入射面之平面中之特有尺寸为该栅之节距。5. 根据申请专利范围第4项之光学记录载体,其中抗反射栅具有横断面为三角形之各槽。6. 根据申请专利范围第1项之光学记录载体,其中记录层含有一种相变材料。7. 根据申请专利范围第1项之光学记录载体,其中一反射层及一干涉层乃依所述之次序配置于基体与记录层之间。图示简单说明:图1为在碟形记录载体上之记录层之平面图;图2显示取自线A-A上之记录载体部份之横截面图;及
地址 荷兰