| 主权项 |
1. 一种施热可活化之聚合物组成物至一基底上之方法,包括提供呈液体状态之该组成物至一条流动途径以便分散该组成物在基底上以及使用一种能量射束同时照射该流动途径中之组成物,其中使该能量射束成形为大致流动途径的形状并予以引导入该流动途径中之组成物中以便自该射束传输能量至组成物及至基底上用以加热该对底(当将组成物施加至其上时)。2. 如申请专利范围第1项之方法,其中该组成物是一种可挤压之介质。3. 如申请专利范围第1项之方法,其中能量射束是雷射。4. 一种施热可活化之聚合物组成物至一基底上之装置,包括形成一条流动途径之设备以便容纳液态之组成物及沿着该流动途径而引导该组成物并至基底上,及设备用以使能量射束形成为大体上流动途径的形状并引导能量射束入流动途径中之组成物中及至基底上以便照射流动途径中之组成物以便自该射束传输能量至组成物且当将组成物施加至基底上时,使用该能量射束照射基底。5. 如申请专利范围第4项之装置,其中形成流动途径之设备包括喷嘴。6. 如申请专利范围第5项之装置,其中该喷嘴包括以与流动途径成横向之方向供应组成物之设备及与该流动途径相对准之一个光学窗用以传输能量射束入流动途径中。7. 如申请专利范围第5项之装置,其中使该流动途径逐渐变细并另外包括用以沿着该流动途径而会聚能量射束之设备。8. 如申请专利范围第7项之装置,其中用以会聚之设备包括与该流动途径相对准之一个光学窗。9. 如申请专利范围第6项之装置,另外包括用以可移动方式支持喷嘴之设备。10. 如申请专利范围第6项之装置,另外包括接邻喷嘴之设备用以供应呈大致液态之组成物至流动途径。11. 如申请专利范围第10项之装置,其中该组成物是一种热熔性黏合剂而能量射束是雷射光束。12. 如申请专利范围第11项之装置,其中用以供应之设备包括一具加热器以便熔化该组成物及一只泵用以提供经熔化之组成物至喷嘴设备。13. 如申请专利范围第12项之装置,其中储存器,加热器和泵均密切接邻喷嘴。14. 如申请专利范围第13项之装置,另外包括依照经预定之图案用以移动基底(关于喷嘴)之设备。15. 如申请专利范围第4项之装置,其中形成流动途径之设备包括一个光学窗用以传输能量射束入流动途径中。16. 如申请专利范围第11项之装置,其中雷射是一具YAG雷射。17. 如申请专利范围第16项之装置,其中热熔性黏合剂是尼龙。图示简单说明:图1是本发明的示意图显示同时施加电磁能量之射束及一种可挤压之物料在一个目标基底上。图2是本发明的较佳具体实施例的横截面。图3举例说明依照本发明使用一种可挤压之物料黏合两片的物料。图4举例说明依照本发明使用可挤压之物料来连合之另外具体实施例。图5举例说明依照本发明使用可挤压之物料来连合之更另外具体实施例。图6举例说明依照本发明使用可挤压之物料通过一种多孔 |
