发明名称 |
双轴取向叠层聚酯薄膜 |
摘要 |
本发明公开了一种双轴取向叠合聚酯薄膜,它具有至少两层的叠层结构。至少薄膜最外层之一是厚度不大于3μm的薄叠合层A。在层A中,存在着内部形成的颗粒和特定的聚集颗粒或单分散性颗粒,或者存在少量的单分散性颗粒。当该聚酯薄膜用作磁性记录介质的基膜时,在高速下薄膜表面的耐磨性大大增加。 |
申请公布号 |
CN1105319A |
申请公布日期 |
1995.07.19 |
申请号 |
CN94116872.7 |
申请日期 |
1994.08.30 |
申请人 |
东丽株式会社 |
发明人 |
冈崎岩;三宅彻;阿部晃一;大岛桂典 |
分类号 |
B32B27/20;B32B27/36;G11B5/704 |
主分类号 |
B32B27/20 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
杨丽琴 |
主权项 |
1、一种至少有两层叠层结构的双轴取向叠层聚酯薄膜,其特征在于所述薄膜的至少一个最外层是叠层厚度不小于0.01μm并且不大于3μm的薄叠合层A,至少所述的薄叠合层A含有内部形成的颗粒,并且所述的薄叠合层A含有平均聚集度为5至100、含量不小于0.01%重量不大于2%重量的聚集颗粒,所说聚集颗粒的每一个是由平均初始颗粒直径为5至200nm的颗粒形成。 |
地址 |
日本东京 |