发明名称 双轴取向叠层聚酯薄膜
摘要 本发明公开了一种双轴取向叠合聚酯薄膜,它具有至少两层的叠层结构。至少薄膜最外层之一是厚度不大于3μm的薄叠合层A。在层A中,存在着内部形成的颗粒和特定的聚集颗粒或单分散性颗粒,或者存在少量的单分散性颗粒。当该聚酯薄膜用作磁性记录介质的基膜时,在高速下薄膜表面的耐磨性大大增加。
申请公布号 CN1105319A 申请公布日期 1995.07.19
申请号 CN94116872.7 申请日期 1994.08.30
申请人 东丽株式会社 发明人 冈崎岩;三宅彻;阿部晃一;大岛桂典
分类号 B32B27/20;B32B27/36;G11B5/704 主分类号 B32B27/20
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 杨丽琴
主权项 1、一种至少有两层叠层结构的双轴取向叠层聚酯薄膜,其特征在于所述薄膜的至少一个最外层是叠层厚度不小于0.01μm并且不大于3μm的薄叠合层A,至少所述的薄叠合层A含有内部形成的颗粒,并且所述的薄叠合层A含有平均聚集度为5至100、含量不小于0.01%重量不大于2%重量的聚集颗粒,所说聚集颗粒的每一个是由平均初始颗粒直径为5至200nm的颗粒形成。
地址 日本东京