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发明名称 POSITIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION.
摘要
申请公布号 EP0662222(A1) 申请公布日期 1995.07.12
申请号 EP19930922386 申请日期 1993.09.24
申请人 HOECHST CELANESE CORPORATION;INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 LU, PING-HUNG;DAMMEL, RALPH R.;EIB, NICHOLAS KISER;FICNER, STANLEY A.;KHANNA, DINESH N.;KLOFFENSTEIN, THOMAS J., JR.;LYONS, CHRISTOPHER F.;PLAT, MARINA;RAHMAN, M. DALIL
分类号 C08L61/04;C08L61/06;G03F7/023;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/023 主分类号 C08L61/04
代理机构 代理人
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