首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 SUBSTRATE MATERIAL FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 JPH07169675(A) 申请公布日期 1995.07.04
申请号 JP19930342794 申请日期 1993.12.16
申请人 NATL RES INST FOR METALS 发明人 NAKATANI ISAO
分类号 G03F7/09;H01L21/027;H05K1/03;H05K3/28;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/09
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com