首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 System zum kontinuierlichen Behandeln von Halbleitersubstraten.
摘要
申请公布号 DE68921273(T2) 申请公布日期 1995.06.22
申请号 DE1989621273T 申请日期 1989.09.12
申请人 FUJITSU LTD., KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 KIRISEKO, TADASHI, TSUKUI-GUN KANAGAWA 220-01, JP;TANI, HIROMICHI, KAWASAKI-SHI KANAGAWA 211, JP;SOMA, NORIKO, YOKOHAMA-SHI KANAGAWA 277, JP;SHIGEMI, NOBUHISA, NAKAHARA-KU KAWASAKI-SHI KANAGAWA 211, JP;TOYODA, TAKAYUKI, MIE 510, JP
分类号 B65H85/00;H01L21/00;H01L21/677;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 B65H85/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com