| 发明名称 | 镍钴铬铝硅铪钇/铝梯度涂层及双靶溅射工艺 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种MCrAlX涂层新工艺，其特征在于采用磁控溅射MCrAlX梯度涂层。即用双靶MCrAlX/Al磁控溅射沉积法将MCrAlX及Al同时沉积在高温合金上，沉积时靶功率逐渐变化，样品不断旋转，从而得到Al浓度逐渐变化的厚度均匀的MCrAlX包覆梯度涂层，沉积后进行热处理，以增强涂/基结合力。本发明的优点在于涂层晶粒细小，静态氧化抗力高，抗热腐蚀性能好。 | ||
| 申请公布号 | CN1103676A | 申请公布日期 | 1995.06.14 |
| 申请号 | CN93120621.9 | 申请日期 | 1993.12.07 |
| 申请人 | 北京科技大学 | 发明人 | 叶锐曾;于文秀;陈仁治;马跃发;龚杰;吴显云;孙金贵;孙庆标;宋铂;杨莲隐;曹士伟;崔绍成;吕反修;许庆芳;袁建军 |
| 分类号 | C23C14/14;C23C14/35 | 主分类号 | C23C14/14 |
| 代理机构 | 北京科技大学专利代理事务所 | 代理人 | 刘月娥 |
| 主权项 | 一种MCrAlX涂层新工艺，其特征在于采用磁控溅射MCrAlX梯度涂层，即：1、用对靶(双靶)MCrAlX/Al磁控溅射沉积法将MCrAlX及Al同时沉积在高温合金(涡轮叶片)上，沉积时靶功率逐渐变化，样品不断旋转，从而得到Al浓度逐渐变化的厚度均匀的MCrAlX包覆梯度涂层；沉积后进行热处理，以增强涂/基结合力，改善涂层组织状态。 | ||
| 地址 | 100083北京市海淀区学院路30号 | ||