| 发明名称 |
COMPOUND SEMICONDUCTOR DEVICE, ITS FABRICATION AND DEFECT MEASURING METHOD FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07135304(A) |
申请公布日期 |
1995.05.23 |
| 申请号 |
JP19930302175 |
申请日期 |
1993.11.09 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
YOSHIKAWA SHUNEI;OCHIMIZU HIROAKI |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/20;H01L21/338;H01L29/778;H01L29/812;(IPC1-7):H01L29/778 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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