首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PROCESS OF MANUFACTURE OF STRUCTURE SILICON-SILICON DIOXIDE FILM
摘要
申请公布号 RU2034365(C1) 申请公布日期 1995.04.30
申请号 SU19915026339 申请日期 1991.12.19
申请人 NAUCHNO-ISSLEDOVATELSKIJ INSTITUT IZMERITELNYKH SISTEM 发明人 SKUPOV VLADIMIR D;TSYPKIN GRIGORIJ A;AGLAUMOV SERGEJ N;GUDENKO BORIS V
分类号 H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/316 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com