| 发明名称 |
METHOD OF CONTROLLING COMPOSITION FOR FILM FORMING BY ECR SPUTTERING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07102370(A) |
申请公布日期 |
1995.04.18 |
| 申请号 |
JP19920136828 |
申请日期 |
1992.05.28 |
| 申请人 |
MURATA MFG CO LTD;AFUTEI:KK |
发明人 |
TAKADA HIDEKAZU;TANAKA KATSUHIKO;HIRUKAWA YOUICHI;IGARASHI MASARU |
| 分类号 |
C23C14/08;C23C14/14;C23C14/35;H01L21/203;(IPC1-7):C23C14/35 |
主分类号 |
C23C14/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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