| 主权项 |
1.一种影像装置,包括一第一基质,该第一基质载有一成像元件阵列及一透镜元件阵列,并使每一透镜元件均与至少一个成像元件相结合,用以集中在该成像元件与该至少一个透镜元件之间的光径上行进的光线,此种影像装置之特征为将具有一可电气改变折射率之一光电材料设于由一第二基质与该成像元件和该透镜元件阵列中之一之间所界定之空间内,以及提供有装置,用以将一电位施加在该光电材料上面,以调节该等透镜元件之有效焦距。2.根据申请专利范围第1项之影像装置,其中该透镜元件阵列由该第二基质所承载以及将该光电材料用之空间提供在该成像元件阵列与第二基质之间。3.根据申请专利范围第1项之影像装置,其中系将该光电光材料用之空间设在该透镜元件阵列与该第二基质之间。4.根据申请专利范围第1,2或3项之影像装置,其中用以将一电位施加于该光电材料上面的装置包括一传光电极,该电极系由邻接该光电材料之第二基质所承载。5.根据申请专利范围第4项之影像装置,其中用以将一电位施加于该光电材料上面的装置包括另一个传光电极,该电极系与该成像元件阵列及该透镜元件阵列中之一相结合。6.根据申请专利范围第4项之影像装置,其中用以将一电位施加于该光电材料上面的装置包括一个别另一电极,该电极系与该成像元件阵列及该透镜元件阵列中之一的每一元件相结合,且该每一另外电极均与一个别转换元件相结合,用以控制将一电位施加在该另一电极与该第二基质所承载之传光电极之间。7.根据申请专利范围第1,2或3项之影像装置,其中该光电材料由液晶组成。8.根据申请专利范围第1,2或3项之影像装置,其中每一透镜均与一单独成像元件结合。9.根据申请专利范围第1,2或3项之影像装置,其中每一成像元件均包括一光敏二极体。10.根据申请专利范围第1,2或3项之影像装置,其中该等成像元件阵列均包括一二度空间排列的薄膜成像元件。图1为穿过根据本发明之一种影像装置之一实例之一部分之一真正简化示意横断面图。图2为穿过根据本发明之一种影像装置之一第二实例之一部分之一真正简化示意横断面图。图3为适于用在根据本发明之一种影像装置中之一光敏排列之一个实列之一示意电路布置。图4为根据本发明之一种影像装置之另一具体实例之一影像元件(像素) |
