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发明名称
MANUFACTURE AND EQUIPMENT FOR MANUFACTURING SOI MULTILAYERED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPH0766375(A)
申请公布日期
1995.03.10
申请号
JP19930207832
申请日期
1993.08.23
申请人
SUMITOMO SITIX CORP
发明人
TOMITA SHINICHI
分类号
H01L21/02;H01L21/306;H01L27/12;(IPC1-7):H01L27/12
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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