| 发明名称 |
Procédé de fabrication de cuivre à très basse teneur en oxygène. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2690462(B1) |
申请公布日期 |
1995.03.10 |
| 申请号 |
FR19930004066 |
申请日期 |
1993.04.06 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP |
发明人 |
ISHIDA NORIKAZU;TAKURO IWAMURA |
| 分类号 |
C22B15/00;C22B15/14;(IPC1-7):C22B15/14;C22B9/05 |
主分类号 |
C22B15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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