发明名称 METODO E DISPOSITIVO PER LA DEPOSIZIONE TRAMITE SPRUZZAMENTO CATODICO DI FILMS SOTTILI SUPERCONDUTTORI DI NIOBIO SU CAVITA' RISONANTI A QUARTO D'ONDA IN RAME PER L'ACCELLERAZIONE DI IONI PESANTI.
摘要 Metodo per la realizzazione di un sottile film di rivestimento all'interno di cavità risonanti a quarto d'onda in rame, consistente nella deposizione per spruzzamento catodico (sputtering) a diodo polarizzato in corrente continua, di un materiale superconduttore, in particolare Niobio, sotto forma di micro-strato a spessore praticamente costante che riveste sia la superficie cilindrica della cavità, sia la piastra piana che costituisce il fondo della medesima, mediante catodi emettitori aventi una forma che segue geometricamente l'andamento delle superfici da rivestire.
申请公布号 IT1249440(B) 申请公布日期 1995.02.23
申请号 IT1991RM00616 申请日期 1991.08.14
申请人 ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE 发明人 PALMIERI VINCENZO;PRECISO RENATO;RUZINOV VLADIMIR L.
分类号 C23C14/16;C23C14/34;C23C14/38;H01L39/24;H05H7/20;(IPC1-7):C23C;H01B 主分类号 C23C14/16
代理机构 代理人
主权项
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