Process for making microstructures.

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern mit Strukturtiefen von mehreren µm bis in den mm-Bereich durch bildmäßiges Bestrahlen von Polymeren, die auf dimensionsstabilen Trägern mittels einer oder mehrerer Haftschichten aufgebracht sind, mit Synchrotronstrahlung und Entfernen der bildmäßig bestrahlten Bereiche, wobei die Haftschicht aus Kohlenstoff oder Verbindungen des Kohlenstoffs mit Elementen niedriger Ordnungszahl besteht und durch Aufdampfen, plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung oder Kathodenzerstäubung auf den dimensionsstabilen Träger aufgebracht wird. Das Verfahren eignet sich zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern aus Metallen oder Kunststoff.