Mikrolithographisches Verfahren zur Herstellung von Schaltungen unter Verwendung von für elektromagnetische Strahlungen und geladene Teilchen empfindlichen organischen leitfähigen Filmen.,申请号DE19883889967T-传众专利搜索

发明名称	Mikrolithographisches Verfahren zur Herstellung von Schaltungen unter Verwendung von für elektromagnetische Strahlungen und geladene Teilchen empfindlichen organischen leitfähigen Filmen.
摘要
申请公布号	DE3889967(T2)	申请公布日期	1995.01.12
申请号	DE19883889967T	申请日期	1988.03.21
申请人	COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE, PARIS, FR	发明人	BARRAUD, ANDRE, F-91440 BURES SUR YVETTE, FR;RICHARD, JOEL, F-78190 TRAPPES, FR;VANDEVYVER, MICHEL, F-92290 CHATENAY MALABRY, FR
分类号	H01B5/14;H01B13/00;H05K1/09;H05K3/00;H05K3/02;H05K3/10;(IPC1-7):H05K3/00	主分类号	H01B5/14
代理机构		代理人
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