| 发明名称 |
PHOTORESIST COMPOSITIONS |
| 摘要 |
Spin castable radiation sensitive compositions are provided by forming an organic solvent solution of a novolak resin, an organic polymer having chemically combined acid labile groups, and an aryl onium salt.
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| 申请公布号 |
CA1333536(C) |
申请公布日期 |
1994.12.20 |
| 申请号 |
CA19880561109 |
申请日期 |
1988.03.10 |
| 申请人 |
MICROSI, INC. |
发明人 |
CRIVELLO, JAMES V.;O'BRIEN, MICHAEL J.;LEE, JULIA L. |
| 分类号 |
G03C1/72;C08K5/00;C08L61/04;C08L61/06;G03F7/00;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/004 |
主分类号 |
G03C1/72 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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