| 摘要 |
Die Erfindung betrifft die Herstellung einer polymeren Deckschicht auf der inneren Oberfläche eines Kunststoffhohlkörpers durch Niederdruck-Plasmapolymerisation, wobei die Gasatmosphäre, die das um eine Radiofrequenz erzeugte Plasma bildet, eine unter den jeweiligen Plasmabedingungen polymerisierbare, im wesentlichen unpolare gas- und/oder dampfförmige Ausgangssubstanz enthält. Dabei kann die schichtbildende Gasatmosphäre zwei oder mehr Komponenten enthalten, die einerseits überwiegend zu Kettenwachstum neigen bzw. andererseits dazu neigen, Verzweigungs- bzw. Vernetzungsstellen zu bilden. Ferner kann diese Gasatmosphäre eine der Bildung von Staub entgegenwirkende Komponente enthalten.
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| 申请人 |
KAUTEX WERKE REINOLD HAGEN AKTIENGESELLSCHAFT;BUCK PLASMA ELECTRONIC GMBH;ESSER, KLAUS;KARSCH, ULRICH;RUNKEL, JUERGEN;GRUENWALD, HEINRICH;NAUENBURG, KLAUS;WEICHART, JUERGEN;DIENER, CHRISTOPH |
发明人 |
ESSER, KLAUS;KARSCH, ULRICH;RUNKEL, JUERGEN;GRUENWALD, HEINRICH;NAUENBURG, KLAUS;WEICHART, JUERGEN;DIENER, CHRISTOPH |
